Meyers Großes Taschenlexikon in 25 Bänden
Oberflächenphysik
Oberflächenphysik,Spezialgebiet der Festkörperphysik, das sich mit den physikal. Eigenschaften der Grenzflächen von Festkörpern gegen Gasphasen oder Vakuum befasst. Unter der (idealen) Oberfläche sind die ersten drei bis vier Atomlagen des Festkörpers zu verstehen, in denen starke Abweichungen von der regelmäßigen räuml. Anordnung der Atome im Kristallgitter auftreten. Das physikal. und chem. Verhalten von Oberflächen spielt eine große Rolle bei der Katalyse, Galvanotechnik, Adhäsion, Verschleißfestigkeit, Korrosion, Dünnschichttechnik (z. B. Dünnschichtchromatographie), Oberflächenbearbeitung, beim Ionenaustausch u. a. technisch wichtigen Prozessen. Reine Oberflächen können am einfachsten durch Spaltung eines Kristalls hergestellt werden. Da sich nach jeder Oberflächenbehandlung in Sekundenbruchteilen neue Adsorptionsschichten und Verunreinigungen auf der Oberfläche ablagern, solange der Kristall mit einer Gasatmosphäre in Kontakt steht, müssen Oberflächenuntersuchungen im Ultrahochvakuum durchgeführt werden. Wichtige Methoden der Oberflächenanalyse sind Elektronenmikroskopie, ESCA, LEED-Verfahren und Sekundärionenmassenspektrometrie, Sputtern (Kathodenzerstäubung) und andere Plasmabehandlungen.
Oberflächenphysik,Spezialgebiet der Festkörperphysik, das sich mit den physikal. Eigenschaften der Grenzflächen von Festkörpern gegen Gasphasen oder Vakuum befasst. Unter der (idealen) Oberfläche sind die ersten drei bis vier Atomlagen des Festkörpers zu verstehen, in denen starke Abweichungen von der regelmäßigen räuml. Anordnung der Atome im Kristallgitter auftreten. Das physikal. und chem. Verhalten von Oberflächen spielt eine große Rolle bei der Katalyse, Galvanotechnik, Adhäsion, Verschleißfestigkeit, Korrosion, Dünnschichttechnik (z. B. Dünnschichtchromatographie), Oberflächenbearbeitung, beim Ionenaustausch u. a. technisch wichtigen Prozessen. Reine Oberflächen können am einfachsten durch Spaltung eines Kristalls hergestellt werden. Da sich nach jeder Oberflächenbehandlung in Sekundenbruchteilen neue Adsorptionsschichten und Verunreinigungen auf der Oberfläche ablagern, solange der Kristall mit einer Gasatmosphäre in Kontakt steht, müssen Oberflächenuntersuchungen im Ultrahochvakuum durchgeführt werden. Wichtige Methoden der Oberflächenanalyse sind Elektronenmikroskopie, ESCA, LEED-Verfahren und Sekundärionenmassenspektrometrie, Sputtern (Kathodenzerstäubung) und andere Plasmabehandlungen.