Meyers Großes Taschenlexikon in 25 Bänden
MIS-Technik
MỊS-Technik[Abk. für engl. metal insulator semiconductor, »Metall-Isolator-Halbleiter«], Bez. für die Gesamtheit aller Verfahren zur Herstellung diskreter Halbleiterbauelemente und integrierter Schaltungen, bei denen MIS-Übergänge zur Herstellung verschiedener Funktionselemente, bes. von MISFET (Transistor), aber auch von Kondensatoren, Varaktoren, Speicherelementen und Widerständen verwendet werden. Die Bez. MIS-T. wird i. w. S. häufig synonym mit MOS-Technik verwendet, i. e. S., wenn der Gateisolator nicht aus SiO2 oder dem natürl. Oxid des Halbleitersubstrats besteht. In letzterem Sinn ist das größte Einsatzgebiet der MIS-T. die Herstellung programmierbarer und nicht flüchtiger Speicher (z. B. MASFET, MNOSFET).
MỊS-Technik[Abk. für engl. metal insulator semiconductor, »Metall-Isolator-Halbleiter«], Bez. für die Gesamtheit aller Verfahren zur Herstellung diskreter Halbleiterbauelemente und integrierter Schaltungen, bei denen MIS-Übergänge zur Herstellung verschiedener Funktionselemente, bes. von MISFET (Transistor), aber auch von Kondensatoren, Varaktoren, Speicherelementen und Widerständen verwendet werden. Die Bez. MIS-T. wird i. w. S. häufig synonym mit MOS-Technik verwendet, i. e. S., wenn der Gateisolator nicht aus SiO2 oder dem natürl. Oxid des Halbleitersubstrats besteht. In letzterem Sinn ist das größte Einsatzgebiet der MIS-T. die Herstellung programmierbarer und nicht flüchtiger Speicher (z. B. MASFET, MNOSFET).