Meyers Großes Taschenlexikon in 25 Bänden
CVD-Verfahren
CVD-Verfahren[CVD, Abk. für engl. chemical vapor deposition], die Abscheidung verschleiß- und korrosionsschützender Schichten auf Werkstücken, von Dotierungselementen auf Halbleiteroberflächen oder von hochreinen Gläsern auf einem Substrat. Im Ggs. zum Aufdampfen entsteht das aufzubringende Material chemisch aus der Gasphase bei Temperaturen zw. 500 und 1100 ºC.
CVD-Verfahren[CVD, Abk. für engl. chemical vapor deposition], die Abscheidung verschleiß- und korrosionsschützender Schichten auf Werkstücken, von Dotierungselementen auf Halbleiteroberflächen oder von hochreinen Gläsern auf einem Substrat. Im Ggs. zum Aufdampfen entsteht das aufzubringende Material chemisch aus der Gasphase bei Temperaturen zw. 500 und 1100 ºC.